【摘 要】
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<正> 三氟化硼是半导体工艺中进行离子注入用的重要掺杂离子源。国内大都采用氟硼酸盐、硼酐和硫酸共热的湿式分解法。不过湿法在反应中生成的水,就是加入过量浓硫酸,也无法
【机 构】
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长沙半导体工艺设备研究所; 长沙半导体工艺设备研究所;
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<正> 三氟化硼是半导体工艺中进行离子注入用的重要掺杂离子源。国内大都采用氟硼酸盐、硼酐和硫酸共热的湿式分解法。不过湿法在反应中生成的水,就是加入过量浓硫酸,也无法吸收掉,因此生成氟化硼的水合物BF3·nH2O凝聚在烧瓶瓶壁,影响BF3的质量。另外,BF3水解后生成的氟化氢,对玻璃反应器有腐蚀作用,也影响BF3气体的质量。为了进一步提高BF3气体的质量,设计了制备BF3
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