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对向靶溅射参数对CoCr膜性质的影响及CoCr软盘的研究
对向靶溅射参数对CoCr膜性质的影响及CoCr软盘的研究
来源 :信息记录材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dark709
【摘 要】
:
本文系统地研究了对向靶溅射参数P_Ar、I_s、T_s、V_b对CoCr膜结构和磁性的影响。结果发现较低的P_Ar和适当的V_b对提高CoCr膜C轴的取向度有利,T_s、I_s对CoCr的磁性有很大影
【作 者】
:
姜恩永
单慧波
张西祥
李金锷
【机 构】
:
天津大学物理系,天津大学物理系
【出 处】
:
信息记录材料
【发表日期】
:
1989年2期
【关键词】
:
溅射法
COCR
原子数
取向度
垂直磁记录
负偏压
膜结构
磁控溅射
性能测试结果
饱和磁化强度
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本文系统地研究了对向靶溅射参数P_Ar、I_s、T_s、V_b对CoCr膜结构和磁性的影响。结果发现较低的P_Ar和适当的V_b对提高CoCr膜C轴的取向度有利,T_s、I_s对CoCr的磁性有很大影响。在此基础上研制出了CoCr软磁盘。
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