溅射法相关论文
采用刮涂法将无粘结剂的级配结构浆料涂覆在柔性铟掺杂氧化锡(Indium-doped transparent conducting oxide，SnO2：In，ITO)聚萘二甲酸乙......
对rf溅射法制备的xFe-AlO颗粒薄膜,应用X射线衍射仪(XRD)进行了测试和分析,推算了不同样品中Fe粒子的大小和元素面积比.并使用4探......
采用以Ar和O混合气体为溅射气体的反应RF溅射法在Si(100)衬底上制备了Al掺杂多晶ZnO(AZO)薄膜.Al掺杂是通过在金属Zn靶上放置一定......
本课题介绍了一种不常见的直流溅射法制备纳米薄膜材料的新型方法，即对于不导电的有机小分子物质，通过导电的方式制备成纳米薄膜，即材......
1.前言磁性材料应用于各种电气、电子设备上。近来开发的非晶磁性材料,具有良好的软磁特性和制造方法简单等优点,因而作为新型节......
采用气相生长法研制金刚石薄膜正以惊人的速度转向实用化。然而,还存在不少不解之谜。等离子CVD法中这些需要解决的问题大致可归......
本文介绍了制备ZnO簿膜的各种技术,ZnO簿膜的性能及其应用。对ZnO簿膜的结构、电学和光学性能进行了综述。
In this paper, vario......
许多研究所制取BSCCO(B Sr Ca Cu氧化物)薄膜已获成功。日本富士通公司宣称用卤化物化学气相沉积法制成了BSCCO单晶薄膜。薄膜沉......
气敏半导体薄膜内的载流子浓度与薄膜表面吸附氧密度的关系,可以反映气敏薄膜的敏感性。本文采用刚性能带模型,计算了不同厚度的Zn......
自1935年发明涂布型磁带以来,磁记录技术得到迅速发展。最初的磁记录波长为100μm,最近发表的8mm录像带记录波长达到0.7μm;喷镀......
制样是制备高质量电镜样品照片的关键一步。关于催化剂的电镜样品制备方法,根据不同对象和要求而异。本文介绍一种模型催化剂的电......
使用溅射沉积方法在液氮冷却基板上获得了较宽组分范围的非晶态Ti_(1-x)Pd_x合金(0.25...
本文对新型薄膜磁头材料ＦｅＳｉＡｌ合金进行了研究，发现氩压和衬底温度直接影响着膜的结构和磁学性能。当氩压在０．１Ｐａ左右，衬底温度高于２５０℃时，淀积薄膜......
日本丰桥技术科学大学工学部宫崎保光教授研制成一种采用光激励的光集成式光放大元件。光放大元件,是把利用溅射法掺杂钕的YGG薄......
本文阐述了真空电弧沉积（ＶＡＤ）的各种净化方法，并讨论了纯净化的真空电弧在非晶硅膜层沉积方面的应用，包括在制造太阳能电池方面的应用前景......
彩色滤波膜、透明导电膜、表面稳定的铁电液晶取向膜等构成了彩色铁电液晶显示器的主要材料。文章论述了彩色铁电液晶显示器的制造......
用热蒸发法和磁控离子射频溅射法制备了ZnS薄膜,利用X射线衍射技术对所研制的薄膜的结构相特性进行研究,为研制高效的光电材料提供......
在氩、氮混合气氛中，对钛金属靶采用直流反应磁控溅射法，在玻璃基片上沉积了氮化钛膜。沉积过程中，总压强在０．２～３Ｐａ范围内变化。利用Ｘ射线衍射......
本文用聚合物ＰＥＯ的锂盐络合物作电解质，制作全固态电致变色窗，讨论了器件的特性，以及工艺条件的影响
In this paper, lithium-salt comp......
半导体工艺进入０．２５μｍ时代，对溅射设备的微细化技术要求逐步接近极限。同时，设备投资效率的提高也是一个十分关键的环节，不仅要提高产量。......
本文介绍了平板显示器制造过程中真空设备的应用，其中介绍了液晶制造过程中所应用的溅射成膜工艺和设备，以及低温多晶硅ＴＦＴ的成膜技术。......
本文介绍了ＴＦＴ／ＰＤＰ用真空成膜技术和设备，主要介绍ＴＦＴ用ＩＴＯ膜和ＰＤＰ用ＭｇＯ／Ｃｕ．Ｃｒ．Ａｌ膜的成膜技术和设备。
This article describes the TFT / PDP vacuum depositi......
本文对射频溅射法淀积的ａ－ＳｉＣ∶Ｈ膜热退火形成６Ｈ－ＳｉＣ相进行了研究．我们采用红外透射谱、喇曼背散射谱和Ｘ光衍射谱来研究退火形成６Ｈ－ＳｉＣ的过程．在较高的射......
It is the first report of study on the vacuum--evaporated electrochromic WO3 filmusing EXAFS (Extended X-ray Absorption ......
与玻璃基透明导电膜相比，聚合物基透明导电膜耐折，耐摩擦，成本也较低，可广泛使用。本文概述了聚合物基透明导电膜的种类，特点，制备，及其在......
用射频（ＲＦ）共溅射复合靶技术和Ｎ２ 气保护下高温退火的后处理方法，在Ｓｉ 衬底上制备出了碳化硅（ＳｉＣ） 薄膜，通过傅里叶变换红外光谱（ＦＴＩＲ） 、室温光致发光谱......
采用真空蒸发技术，以醋酸锌和氯化铝作为蒸发物质，在加热的玻璃衬底上制备出氧化锌和铝掺杂的氧化锌透明导电薄膜．研究了氢气、空气和......
市场上那些金光黄亮的表带和表壳,它们真是镀上黄金的吗?当然,这是不可能的,用真金作镀层,费用过于昴贵了。原来,这层金黄色是通......
用射频溅射方法,在担体上沉积一层α-Al_2O_3薄层,在溅射过程中使担体不断转动,以达到涂层均匀的目的。把溅射所得的样品用作色谱......
超硬处理与传统的渗碳,氮化等等表面处理相比,硬度高2~5倍,达到1500~4000Hv左右~([1]),其耐磨、耐粘着、耐腐蚀等性能都十分优越,......
一、前言随着工业、特别是航天、航空、国防等工业的发展,对材料提出的要求越来越多,越来越高,仅靠研制新材料是不可能满足的。表......
前言Tic硬而耐磨,且抗蚀性好,因此,获得高结合强度的Tic覆层乃是表面硬化法应该达到的一个目标.但是,现有制取Tic覆层的各种方法:......
呈有序结构的FePt薄膜,由于具有极高的单轴磁各向异性,有望成为未来高密度磁记录介质。日本埼玉大学理工学研究科Koichi Kakizaki......
将耐腐蚀的非晶态Fe-Cr和Ni-Cr合金沉积到不耐腐蚀的基体上的溅射法,已在美国能源部太平洋西北实验室试验成功。这种涂层可以用于......
英国Stromberg有限公司提供的成套涂层设备——K—Equipment 750,为诚望提高生产效益的厂家带来了福音。该设备采用氮化钛(TiN)进......
据日本钢管公司(NKK)宣称,该公司钢研究中心研究人员小杉与东海大学立川教授采用低压等离子喷雾法制成了钇—钡—铜氧化物超导薄......
在模具表面沉积硬质化合物,以改善其耐磨性,耐热性及耐蚀性,这种方法无公害,很有发展前途。一、CVD法本世纪五十年代初期Metallge......
东京大学生产技术研究所教授藤冈洋的研究组与神奈川科学技术研究院(KAST)宣布,共同开发出了在柔性底板上形成由氮化镓(GaN)构成的......
1.概述硬质材料沉积处理的方法,大致可分为:由W.Ruppt等开发并已在工业中应用的化学气相沉积法(CVD),由Mattox、Buns-bah等开发的......
1.导言:通常只有对零件的整体及表面分别选择最佳材料方能获得所要求的性能,如机械强度,延性、耐磨性或外观。半导体元件、光学滤......
