【摘 要】
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Performance and reliability of a 2 transistor Si nanocrystal nonvolatile memory(NVM) are investigated. A good performance of the memory cell has been achieved,i
【机 构】
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Laboratory of Nano-Fabrication and Novel Devices Integrated Technology,Institute of Microelectronics
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Performance and reliability of a 2 transistor Si nanocrystal nonvolatile memory(NVM) are investigated. A good performance of the memory cell has been achieved,including a fast program/erase(P/E) speed under low voltages,an excellent data retention(maintaining for 10 years) and good endurance with a less threshold voltage shift of less than 10%after 10~4 P/E cycles.The data show that the device has strong potential for future embedded NVM applications.
Performance and reliability of a 2 transistor Si nanocrystal nonvolatile memory (NVM) are investigated. A good performance of the memory cell has been achieved, including a fast program / erase (P / E) speed under low voltages, an excellent data retention for 10 years) and good endurance with a less threshold voltage shift of less than 10% after 10 ~ 4 P / E cycles. the data show that the device has strong potential for future embedded NVM applications.
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