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首次报道了采用Ｇｄ２Ｏ３薄膜作介质缓冲层制作金属包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３光波导偏振器，通过对理论模型的计算取合适的介质缓冲层厚度，给出了理论和实验结果，测试结果表明，我们实际制作的Ｇｄ２Ｏ３／Ａｌ包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３偏振器的偏消光比〉３５ｄＢ。
用Gd_2O_3做介质缓冲层制作金属包覆光波导偏振器
【摘 要】
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首次报道了采用Ｇｄ２Ｏ３薄膜作介质缓冲层制作金属包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３光波导偏振器，通过对理论模型的计算取合适的介质缓冲层厚度，给出了理论和实验结果，测试结果表明，我们实际制作的Ｇｄ２Ｏ３／Ａｌ包覆Ｔｉ：ＬｉＮｂＯ３偏振器的偏消光
【机 构】
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国防科技大学应用物理系
【出 处】
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国防科技大学学报
【发表日期】
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1996年3期
【基金项目】
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“八五”重点预研资助
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