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单层MoS2的电子结构和光学性质研究
单层MoS2的电子结构和光学性质研究
来源 :延安大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:yuhy07
【摘 要】
:
采用基于密度泛函理论的第一性原理,研究了单层MoS2的能带结构、电子态密度和光学性质。计算结果表明单层MoS2是直接带隙半导体材料,禁带宽度为1.63 e V,静态介电值为4.7,具
【作 者】
:
黄保瑞
张富春
杨延宁
【机 构】
:
延安大学物理与电子信息学院
【出 处】
:
延安大学学报(自然科学版)
【发表日期】
:
2017年2期
【关键词】
:
第一性原理
电子结构
光学性质
单层MoS2
first - principles electronic structure photoelectric p
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采用基于密度泛函理论的第一性原理,研究了单层MoS2的能带结构、电子态密度和光学性质。计算结果表明单层MoS2是直接带隙半导体材料,禁带宽度为1.63 e V,静态介电值为4.7,具有良好的紫外光吸收特性,研究结果为制备紫外光器件提供了理论基础。
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