Si晶体中Cu和Fe杂质在Frank型位错上的不同沉淀行为

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：V13_ywj

【摘要】

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本文运用电子束感应电流技术和透射电子显微镜研究了直拉Ｓｉ单晶中Ｃｕ和Ｆｅ杂质在Ｆｒａｎｋ型位错上的沉淀行为．发现尽管在Ｓｉ中Ｃｕ杂质浓度远高于Ｆｅ杂质，但Ｃｕ杂质不沉淀在Ｆｒａｎｋ型位错上，而Ｆｅ杂质会沾污Ｆｒａｎｋ型位错．研究结

【作者】

：

沈波陈鹏陈志忠张荣施毅关口隆史角野浩二

【机构】

：

南京大学物理系固体物理研究所,东北大学材料科学研究所

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1998年07期

【关键词】

：

Cu Fe Frank Si 透射电子显微镜衬度禁带电学性能饱和浓度加速电压

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本文运用电子束感应电流技术和透射电子显微镜研究了直拉Ｓｉ单晶中Ｃｕ和Ｆｅ杂质在Ｆｒａｎｋ型位错上的沉淀行为．发现尽管在Ｓｉ中Ｃｕ杂质浓度远高于Ｆｅ杂质，但Ｃｕ杂质不沉淀在Ｆｒａｎｋ型位错上，而Ｆｅ杂质会沾污Ｆｒａｎｋ型位错．研究结果表明，样品中微小Ｐｕｎｃｈｅｄ－ｏｕｔ位错的存在和Ｃｕ杂质在Ｓｉ中的重复成核机制是Ｃｕ杂质不沉淀在Ｆｒａｎｋ型位错上的主要原因．

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