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当测量直接重写磁光记录薄膜的矫顽力,饱和磁化强度所需的外磁场和磁化强度超出了所用VSM的测量范围时,若不采用增加膜厚的方法,则无法直接测量薄膜的基本参数.本文提出一种简单、有效、可靠、精密的外推方法间接地测量出它的磁性参数,并得到它的完整的温度特性,为每层膜居里温度的估计提供可靠的依据.
直接重写磁光记录薄膜磁特性测量的外推方法
【摘 要】
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当测量直接重写磁光记录薄膜的矫顽力,饱和磁化强度所需的外磁场和磁化强度超出了所用VSM的测量范围时,若不采用增加膜厚的方法,则无法直接测量薄膜的基本参数.本文提出一种
【机 构】
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华中科技大学电子科学与技术系
【出 处】
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磁性材料及器件
【发表日期】
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2001年3期
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