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利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜。分析了类金刚石薄膜的硬度和工艺参数的关系，讨论了薄膜的耐磨性和化学稳定性。
脉冲多弧离子镀制备类金刚石薄膜的力学特性
【摘 要】
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利用脉冲多弧离子镀技术在硅基底上沉积类金刚石薄膜。分析了类金刚石薄膜的硬度和工艺参数的关系，讨论了薄膜的耐磨性和化学稳定性。
【机 构】
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西安交通大学电子物理与器件研究所
【出 处】
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机械科学与技术
【发表日期】
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2001年1期
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