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Plasma density measurement and downstream etching of silicon and silicon oxide in Ar/NF3 mixture rem
Plasma density measurement and downstream etching of silicon and silicon oxide in Ar/NF3 mixture rem
来源 :黑龙江科技学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:XA1093815462
【摘 要】
:
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7
【作 者】
:
H J YEOM
D H CHOI
Y S LEE
J H
【机 构】
:
Korea Research Institute of Standards and Science(KRISS), Daejeon 34113, Republic of Korea“,”Departm
【出 处】
:
黑龙江科技学院学报
【发表日期】
:
2019年6期
【关键词】
:
remote plasma source
electron density
cutoff probe
downstream etch
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为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7<
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