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结合光刻印技术和HfO2液相自组装沉积成膜技术，在单晶硅表面成功地制备了具有微米级图案结构的HfO2薄膜，该硅基图案化HfO2微结构近来在工业界特别是微电子领域引起极度的关注。X射线衍射（XRD）与扫描电镜（SEM）显示，在图案区域成功制备了HfO2薄膜，EDS能谱测试显示了图案区域的HfO2薄膜的化学组成。