【摘 要】
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美国纽瓦克市的新泽西理工学院（NJTT）的科学家使用化学修饰机械抛光方法，可以使石墨能够被大面积地沉积在基质上，形成石墨薄膜。该材料完美的二维晶体性质和导电性能，将促使其应用
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美国纽瓦克市的新泽西理工学院（NJTT）的科学家使用化学修饰机械抛光方法，可以使石墨能够被大面积地沉积在基质上，形成石墨薄膜。该材料完美的二维晶体性质和导电性能，将促使其应用于电子设备中所需要的高速、柔性的电路元件。该化学修饰机械抛光方法是一种使半导体晶片表面变平滑的典型加工手段，使得基质上覆盖上几百微米尺度范围的由硅、阳极化氧化铝或铜组成的薄膜。
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