基于二维数值仿真技术的局部场氧化形状建模

来源 :重庆邮电大学学报(自然科学版) | 被引量 : 13次 | 上传用户：myh8888

【摘要】

：

通过工艺仿真软件S-Tsuprem4对CMOS中常用的硅局部场氧化(local oxidation silicon,LOCOS)技术所生成的"鸟嘴"图形进行了仿真,提出了一种形状模型。随后利用最小二乘拟合法得到相对应的参数,拟合误差为7e-4,并最后以分段函数的方式给出了模型的表达式。该模型可以使"鸟嘴"结构更加方便应用于半导体器件的数值仿真和设计。

【作者】

：

陈晓敏

【机构】

：

成都工业学院信息与计算科学系

【出处】

：

重庆邮电大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2012年04期

【关键词】

：

工艺仿真硅局部场氧化(LOCOS) 形状模型最小二乘拟合分段函数 process stimulation local oxidation silico

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