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光学光刻技术的发展历程及趋势
光学光刻技术的发展历程及趋势
来源 :微处理机 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zyxneu
【摘 要】
:
简述了IC生产加工中光学光刻技术的重要性,发展历程以及发展趋势,对非光学光刻技术的应用作了描述.
【作 者】
:
王相森
【机 构】
:
东北微电子研究所
【出 处】
:
微处理机
【发表日期】
:
2002年4期
【关键词】
:
光刻技术
光学分辨率
准分子激光器
电子束曝光
发展趋势
IC
集成电路
photolithographic technology
optical differ
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简述了IC生产加工中光学光刻技术的重要性,发展历程以及发展趋势,对非光学光刻技术的应用作了描述.
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