【摘 要】
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采用JGP-450复合型高真空多靶磁控溅射设备制备（Nb1-x,Vx）N（x=0,0.08,0.12,0.16,0.19）复合膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、纳米压痕仪及摩擦磨损仪等对复合膜的微结构、力
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采用JGP-450复合型高真空多靶磁控溅射设备制备（Nb1-x,Vx）N（x=0,0.08,0.12,0.16,0.19）复合膜。利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电镜（SEM）、纳米压痕仪及摩擦磨损仪等对复合膜的微结构、力学性能与摩擦性能进行表征。结果表明：NbN薄膜的择优取向为（200）,在NbN薄膜中添加元素V后,薄膜的择优取向转变为（111）,但x增大到0.19时薄膜又呈（200）择优取向;随V元素含量增加,（Nb,V）N复合膜的硬度和弹性模量均先增大后减小,x=0.12时,显微硬度和弹性模量都达到
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