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针对投影光刻机短波长、大数值孔径、短焦深的特点，讨论了一种基于光闸叠栅条纹的纳米检焦方法。该方法采用三角测量的基本原理，利用双光栅光闸叠栅条纹的光强调制机理，并结合像横向剪切器和光弹调制的光学特性，建立了单个光栅周期内焦面位移量和输出光能量线性关系。其具有非接触、强实时性和高稳健性的特点，经理论分析和模拟测试，达到纳米量级的检测精度，可以满足投影光刻高精度、实时、非接触焦面测量的要求。