【摘 要】
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本文介绍了一种新型的沉积装置──微波ＥＣＲ等离子体辅助磁控溅射沉积装置。通过对装置性能的测试及沉积试验表明，该装置具有与离子束辅助沉积相类似的效果，但与离子束辅助沉积装置
【机 构】
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机械工业部沈阳真空技术研究所，大连理工大学
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本文介绍了一种新型的沉积装置──微波ＥＣＲ等离子体辅助磁控溅射沉积装置。通过对装置性能的测试及沉积试验表明，该装置具有与离子束辅助沉积相类似的效果，但与离子束辅助沉积装置相比，该装置提高了成膜的沉积速度，降低了设备成本，为薄膜沉积提出了一条新途径．
This article describes a new type of deposition device ─ ─ microwave ECR plasma-assisted magnetron sputtering deposition device. The device performance test and deposition test show that the device has the similar effect as the ion beam assisted deposition, but compared with the ion beam assisted deposition device, the device increases the deposition rate of the film deposition and reduces the equipment cost. Thin film deposition presents a new way.
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