沉积工艺相关论文
该文在充分考察了各工艺参数的单因素变化对Ni-Fe-P/AlO复合电沉积层性能影响的基础上，选取镀液中AlO及NaHPO.HO含量、施镀温度、阴......
类金刚石涂层(DLC)因其高硬度、高耐磨性、低摩擦因数等特性被广泛用作机械零部件润滑防护涂层,但传统的DLC涂层在高速、重载及高......
专利申请号:CN201810996787公开号:CN109136924A申请日:2018.08.29公开日:2019.01.04申请人:首都航天机械有限公司;上海交通大学本......
针对改良西门子法工艺，通过软件模拟和生产实验研究相结合，探讨了三氯氢硅氢还原沉积工艺和沉积设备对多晶硅生产单位电耗等生产关键......
热解石墨栅极毛坯最普遍、最严重的问题是在车加工过程中经常出现起层、掉皮现象,在喷砂过程中经常出现“劈丝”以及由此而产生的......
脉冲激光沉积是一种新型沉积工艺，跟其它沉积工艺相比它具有许多的优点，这是因为在沉积过程中其靶材料的相对原子浓度可保持不变，从而......
对三包层的大负色散、负色散斜率的色散补偿光纤进行了理论研究，分析了各个参量对色散曲线的调节作用，发现色散补偿光纤只有在一定范......
研究了用直流磁控溅射技术在 80～ 1 40目的镍基合金微粒表面包覆 1 0μm左右的金属铬膜的方法 ,讨论了工艺的影响和膜的性能 ,指出......
在硬质合金刀具上用CVD(化学汽相沉积)法涂敷一层薄的TiN涂层,可提高其切削性能。但CVD工艺所需的温度较高,会使钢产生相变,所以......
化学沉积镍磷合金具有优秀的耐蚀性与耐磨性,关于它的沉积工艺与耐蚀性国外已经有了比较完整的综述和专利发表。近年来国内也有几......
化学汽相沉积(CVD)工艺,是应用汽相镀敷层材料,在高温下与工具表面发生化学反应,使工具表面获得一层其厚度约为0.0003″±0.0001......
文中以表格的形式对不同类型的涂(镀)层及其沉积工艺参数进行了比较,其中包括电解镀铬、次磷酸盐浴镀镍、盐浴渗氮、粉末沉积渗硼......
由陈拱诗同志编译的《金属表面涂层》一书已经出版了。它是以美国加利佛尼亚大学朋夏教授主编,马托克斯等10位知名学者撰写的《薄......
引言自从Brenner和Ridell发现了第一种酸性化学镀镍槽液后,化学镀Ni-P合金开始在工业上得到了应用。几十年来,许多研究人员作了大......
本文介绍了一种新的化学气相沉积碳化钛方法。用此法对几种常用的工具材料进行了沉积处理,并用金相观察、X射线结构分析、X射线光......
本文主要应用JEM-100CXⅡ型透射电镜研究了在Ｃ-u基材上磁控溅射离子镀Ａl及ＣｒＮｉ不锈钢时的沉积层组织与相结构。研究发现; 在一系列沉积工......
三、最近进展CVD 技术近年来的发展趋势是:(1)降低处理温度,即所谓低温 CVD 法。众所周知,普通 CVD(或称 HT-CVD)有如下缺点:如在......
Ni—P合金沉积工艺是一种新型的表面强化技术,应用实践证明,它可以增加材料的表面硬度和耐磨性、耐蚀性,在材料代用,微小零件、精......
在机械学领域中,类金刚石碳膜的应用尚需解决的问题之一是膜与衬底的附着性和膜厚,两者往不能统一。为此,我们采用了间歇式沉积法......
利用脉冲辉光放电的方法,在硅片上采用不同的沉积工艺制备了含氢类金刚石膜层,并采用Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)对膜层进行......
引言由碳-氢系统形成的多种多样的材料,如金刚石、石墨直至高聚合的碳氢化合物,其中,人们知之不多的是非晶态类金刚石覆层(ADLC)......
钨的化学物理特性使钨制品成为某些工业产品中不可缺少的零件。化学气相沉积是获得价廉质好的钨制品的一种工艺方法。本文概述了这......
我们研究出一种高速而经济的制备极薄多层优质Nb_3Sn超导带的化学气相沉积技术。采用这种新技术,使生产商用Nb_3Sn带(宽约2.5毫米)......
采用压痕试验法的临界开裂 (或剥落 )载荷PCr和抗裂性参数dP/dX两指标系统 ,评定了硬质合金基体经不同预处理工艺和沉积工艺参数合......
英国性能化学制品公司Thomas Swan & Co.Ltd.已经披露首批制造高纯度单壁碳纳米管的商业化生产过程的细节。碳纳米管是纯碳的大分......
技术瑞典科学家控制生长纳米线取得突破性进展瑞典科学家在控制生长纳米线研究方面取得了突破性进展,为材料物理学提供了新思路。......
上海交通大学和中科院上海冶金所联合研制的以含C、H、O的低分予有机化合物和氢气为原料的金刚石产品,已稳定的生长出金刚石多晶......
用不附加另外电源的ＤＣ－ＰＣＶＤ装置沉积Ｓｉ３Ｎ４薄膜，，ＸＲＤ ＴＥＭ检查出这种Ｓｉ３Ｎ４是非晶态、ＩＲ，ＡＥＳ验证这种薄膜的主要成分是Ｓｉ３Ｎ４、ＴＥＭ与ＯＭ研究 薄膜组织结构。
Si3N4 thin films wer......
讨论了在单晶锗上为获得单波段（３～５μｍ）及双波段（３～５μｍ、８～１２μｍ）兼容ａ－Ｃ：Ｈ增透膜所必需的膜系设计，及用椭偏法对该膜进行的增透结果分析。结果表明，ａ－Ｃ：Ｈ膜是理......
建立了用于沉积高品质金刚石薄膜的微波等离子体化学气相沉积系统，并对该系统的工作性能进行了研究．
A microwave plasma chemical ......
产生适合于光学薄膜沉积的荷能粒子镀膜技术多种多样。在一些很普通的能量粒子沉积工艺中,用辅助离子轰击生长薄膜,或者电离蒸气......
流体润滑剂作为真空状态下运动部件的润滑受到限制，本文简述了一门新兴学科——薄膜摩擦学
Fluid lubricants as the lubrication ......
用热丝CVD法，以甲烷和氢气为气源，制备出了优质的金刚石薄膜。研究了沉积工艺参数对金刚石薄膜形貌的影响。结果表明：降低碳源浓度或......
采用热丝法化学气相沉积以碳纳米管为形核剂在Ａｕ／Ｃｕ 镀膜为过渡层的铁基底上沉积金刚石膜，研究了以Ａｕ／Ｃｕ 作为过渡层的铁基底上沉积金刚石膜质......
本文叙述了气相沉积中使用电阻真空计遇到的一些问题及解决的方法。
This article describes some of the problems encountered ......
在观察与分析压入过程中CVD金刚石膜开裂方式的基础上，初步探讨了用压痕试验法评定CVD金刚石膜粘附性能的可行性．采用反映膜／基粘附性......
主要从内应力的测定方法、内应力与沉积工艺参数之间的关系两方面对国内外金刚石薄膜内应力的研究现状进行了综述。
The research......
利用自制的雾化装置制备了Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ１Ｎｄ雾化沉积饼材，经８００℃真空热压获得致密的材料，金相观察表明雾化沉积工艺显著地细化Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ１Ｎｄ的组织，并获得......
本文采用真空阴极电弧沉积方法，研究在成型Ｔｉ箔上沉积类金刚石（ＤＬＣ）膜以制备ＤＬＣ／Ｔｉ复合扬声器振膜过程中，Ｔｉ箔性能与组织的变化时发现，镀膜前的“轰击......
研究了溶液的组分及操作条件对Ni－Mo－P合金形成的影响，以得到合适的沉积工艺。试验结果表明，pH=5.6，t=90℃，溶液中的Ni2+/MoO42-=13.9～16.......
