【摘 要】
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采用高密度等离子ICP刻蚀机,在不同工艺条件下,对SiC刻蚀性能进行研究。结果表明：随着O2流量比的增大,刻蚀速率增大,当O2流量比达到0.5时候,刻蚀速率最大为40 nm/min,而后,刻
【机 构】
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河南机电职业学院机电工程学院,洛阳鹰扬机电科技有限公司
【基金项目】
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河南省科技计划资助项目(162102210320);河南省高等学校重点科研项目(18A510008)
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采用高密度等离子ICP刻蚀机,在不同工艺条件下,对SiC刻蚀性能进行研究。结果表明：随着O2流量比的增大,刻蚀速率增大,当O2流量比达到0.5时候,刻蚀速率最大为40 nm/min,而后,刻蚀速率减小。随着气压的增大,刻蚀速率增大,气压达到15 Pa时,刻蚀速率最大为58 nm/min,而后,刻蚀速率减小,离子的方向性会变差,侧蚀变得严重。刻蚀型貌会有一定变化,从＂凵＂型,向＂U＂型,然后到＂V＂型转变。SiC模具型槽加工精度高,加工效率高,粗糙度小,满足了模具型槽行业的部分需求。
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