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中国北京——全球半导体行业先进工艺设备生产和技术的领先企业诺发系统有限公司，日前宣布已经向位于中国北京的清华大学捐赠了一套200mm的化学机械抛光（CMP）设备。这套设备以氧化平坦化工艺处理为主，可用于多种材料的抛光，包括在集成电路制造中使用的钨、铜以及浅沟道隔离（STI）薄膜等。
诺发公司（NOVELLUS）加大对中国微电子教育的支持力度
【摘 要】
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中国北京——全球半导体行业先进工艺设备生产和技术的领先企业诺发系统有限公司，日前宣布已经向位于中国北京的清华大学捐赠了一套200mm的化学机械抛光（CMP）设备。这套设备以氧
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2006年4期
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