论文部分内容阅读
在金属表面涂复具有硬度、耐磨性、耐腐蚀性的陶瓷膜是扩展金属应用范围的确效手段之一。这种陶瓷涂复的方法确PVD法和CVD法。本文就采用等离子CVD法形成氮化硅陶瓷涂膜的结果作一介绍。等离子CVD法具有在低温下也能生成CVD陶瓷涂膜的特点。图1是等离子CVD法所用装置的示意图。基体金属置于下部电极上。反应性气体从上部电极通过网孔板进入工作室。在两极之间施加目(?)电源以产生等离子体,金属上