【摘 要】
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该器件在一H终止的SiC晶体(镀膜的硅衬底)上有一层GaN膜层。Si衬底上接连镀有第一层SiC晶体、Si晶体、第二层用H限定的SiC晶体以及GaN膜层,其中第一和第二层
The device ha
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该器件在一H终止的SiC晶体(镀膜的硅衬底)上有一层GaN膜层。Si衬底上接连镀有第一层SiC晶体、Si晶体、第二层用H限定的SiC晶体以及GaN膜层,其中第一和第二层
The device has a GaN film on an H-terminated SiC crystal (coated silicon substrate). Si substrate is successively plated with a first layer of SiC crystal, a Si crystal, a second layer of SiC crystal defined by H, and a GaN film layer, wherein the first and the second layer
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