【摘 要】
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The low-k carbon doped silica film has been modified by radio frequency helium plasma at 5 Pa pressure and 80 W power with subsequent XPS,FTIR and optical emiss
【机 构】
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SchoolofMechanicalandVehicle,SchoolofMechanicalEngineering&,Automation
【基金项目】
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Shenyang Science and Technology Plan of China （No. F12028200）
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The low-k carbon doped silica film has been modified by radio frequency helium plasma at 5 Pa pressure and 80 W power with subsequent XPS,FTIR and optical emission spectroscopy analysis.XPS data indicate that helium ions have broken Si-C bonds,leading to
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