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研究了温室覆膜滴灌下不同土壤水分下限对小型西瓜根冠发育、品质以及耗水强度的影响。结果表明,高水分下限处理促进了小西瓜冠层发育,低水分下限处理表层0~20cm根系分生能力及根系活力较强;处理间品质指标无显著差异。各处理(灌水下限由高至低)小西瓜全生育期耗水量分别为179.2、172.5和156.7mm。果实膨大期温室相对湿度为其蒸腾的主要驱动力,建立的综合考虑土壤-大气环境要素对植株蒸腾影响的日光温室小西瓜蒸腾量(Tr)估算模型,可用于实际生产栽培中的灌溉决策管理。