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垂直扫描机构是单晶片离子注入机靶盘的支撑部件,起着将高速直线运动从靶室外传递到靶盘的作用。文中针对垂直扫描机构进行了差分密封的设计和计算,结果显示,此垂直扫描机构具有无摩擦、漏气率小的特点,因此它能满足晶片处理过程中对靶室高真空度及金属颗粒的要求。
单晶片离子注入机垂直扫描机构的差分密封设计
【摘 要】
：
垂直扫描机构是单晶片离子注入机靶盘的支撑部件,起着将高速直线运动从靶室外传递到靶盘的作用。文中针对垂直扫描机构进行了差分密封的设计和计算,结果显示,此垂直扫描机构
【机 构】
：
湘潭大学机械工程学院,中国电子科技集团公司第四十八研究所
【出 处】
：
机械工程师
【发表日期】
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2007年2期
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