极紫外多层膜残余应力初步研究

来源 :强激光与粒子束 | 被引量 : 0次 | 上传用户：asd08061

【摘要】

：

针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因.实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si

【作者】

：

向鹏金春水张立超金伟华刘颖敏曹健林

【机构】

：

中国科学院

【出处】

：

强激光与粒子束

【发表日期】

：

2005年3期

【关键词】

：

极紫外多层膜残余应力 CoatingsInterferometersLithographyMolybdenumResidual stressesSilico

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针对极紫外多层膜在激光等离子体诊断、极紫外光刻等方面的应用,进行了Mo/Si多层膜残余应力的实验研究,讨论了多层膜残余应力的成因.实验结果表明:Mo单层膜表现为张应力, Si单层膜表现为压应力;通过传统方法制备的13.0 nm处高反射率的40对Mo/Si多层膜会产生-500 MPa左右的压应力,其压应力主要是由膜层之间的贯穿扩散引起的;通过改变膜层比率可以在一定程度上补偿因贯穿扩散产生的压应力,但是以牺牲多层膜反射率为代价.

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