【摘 要】
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使用MOCVD反应室进行了InGaAs和InP材料上的Zn扩散工艺条件研究。通过控制扩散温度、扩散源浓度和扩散时间三个主要工艺参数，研究了InGaAs／InP材料的扩散系数和扩散规律，获得了
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使用MOCVD反应室进行了InGaAs和InP材料上的Zn扩散工艺条件研究。通过控制扩散温度、扩散源浓度和扩散时间三个主要工艺参数，研究了InGaAs／InP材料的扩散系数和扩散规律，获得了优化的扩散条件。试验表明，该扩散工艺符合原子扩散规律，扩散现象可以用填隙．替位模型解释。样品经过快速退火过程，获得了极高的空穴浓度。InP的空穴浓度达到7．7×10^18／cm^3，而InGaAs材料达到7×10^19／cm^3。在优化的扩散条件下，Zn扩散的深度和浓度精确可控，材料的均匀性好，工艺
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