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简介了光刻技术及其国内外发展现状,分析了我国光刻技术面临的挑战,从光刻胶、光刻机、政策和人才等4个方面提出了解决思路.
光刻技术的挑战和解决思路
【摘 要】
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简介了光刻技术及其国内外发展现状,分析了我国光刻技术面临的挑战,从光刻胶、光刻机、政策和人才等4个方面提出了解决思路.
【机 构】
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南昌航空大学材料科学与工程学院,江西南昌330063
【出 处】
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精细与专用化学品
【发表日期】
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2021年4期
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