光刻机相关论文
随着特征尺寸（CD）的不断减小和套刻精度的不断提高,对AMC（气相分子污染物）引起的污染问题越来越重视。投影光刻机中对AMC的浓度的控制,......
本文通过案例研究方法，采用三螺旋空间理论构建大学-产业-政府三者之间互动逻辑的分析框架，以国家02重大专项和集成电路产业基金政策......
超精密位移测量系统是光刻机不可或缺的关键分系统之一，而基于激光外差干涉技术的超精密位移测量系统同时具备亚纳米级分辨率、纳米......
对于步进扫描投影光刻机，掩模台和工件台的同步伺服性能将直接影响整机技术指标。掩模台和工件台是典型的六自由度超精密运动台，在耦......
集成电路的发展至今已有60余年，对更为强大性能芯片的追求使得芯片制造技术不断迭代升级。长期以来，基于紫外光源投影曝光光刻的芯片......
光刻技术是半导体集成电路技术发展的主要推动技术，其不断提高的分辨率与图形复制精度成功地将集成电路制造线宽从40多年前的2～3μm......
光刻机是支撑集成电路芯片制程不断减小的关键设备，而高性能的光刻机需要高加速度和高精度的运动台作为支撑。为了达到光刻机的各项......
光刻机是制造集成电路的核心设备,随着集成电路向先进制程不断发展,集成电路制造业对光刻机套刻精度要求越来越高。运动台定位精度......
提出了一种光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法。当照明光瞳的部分相干因子发生变化时,该方法的校正手指只需整体在光轴方向......
提出了一种基于 FPGA的光场均匀性测量同步采集方案。在大面积光场均匀性测量中，探头步进扫描法需要对大面积光场进行扫描，因此需要......
提出了一种新的光刻机投影物镜像差原位检测(AMF)技术。详细分析了该技术利用特殊测试标记检测投影物镜球差、像散、彗差的基本原......
提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排......
波片通常用于测量光学系统的偏振效应。对于大入射角的超高数值孔径（NA）成像系统，待测光不再平行于系统光轴，而是与系统光轴有较大夹角......
设计了一个基于二维光栅的高精度位置测量系统的硬件在环仿真平台,分析了测量模型在编程过程中产生误差的原因,并使用该仿真平台测......
产率作为光刻机三大关键指标之一，在高端光刻机中占有重要的地位，而掩模台位移测量系统的计算周期直接影响着产率，因此研究掩模台位移......
芯片禁令实施之后，国内半导体陷入卡脖子的阴云中，从半导体芯片、光刻机、光刻胶乃至工业软件，一个又一个短板被提及并成为大众关注的......
近日,青岛新核芯高端封测项目首台光刻工艺设备进场仪式在山东青岛西海岸新区举行,标志着该项目建设进入关键性节点,为年底投产奠......
提出一种深紫外波长条件下熔石英光学元件应力双折射的评估方法。该方法利用有限元仿真技术获取熔石英光学元件内若干截面的应力数......
阐述光刻机产业发展历史和当前产业现状,分析阿斯麦(ASML)、尼康(NIKON)、佳能(CANON)等企业的成败原因,为我国光刻机产业发展寻求......
“集成电路制造关键装备用高精密碳化硅陶瓷部件研制技术”是中国建筑材料科学研究总院为清华大学等单位承担的国家科技重大专项“......
调焦调平测量系统(FLMS),实时测量硅片曝光视场区域与投影物镜焦面的相对位姿,其测量准确度影响光刻机曝光成像质量。调焦调平测量......
极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术,高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计......
提出一种基于空间像峰值光强差的光刻投影物镜奇像差测量技术。根据Hopkins部分相干成像理论,推导双缝图形空间像光强分布以及峰值......
提出了一种基于空间像自适应降噪的投影物镜波像差检测方法。通过对空间像进行统计分析,获取空间像的噪声模型和噪声标准差模型。......
针对扫描干涉光刻机干涉图形相位锁定需求,提出并设计了干涉图形相位锁定系统。该系统采用零差相位干涉仪实现干涉图形相位漂移的......
从理论上系统性地研究了动态气体锁抑制率,提出了动态气体锁理论分析模型。通过理论分析推导出单组分和多组分清洁气体在等截面或......
光刻机是集成电路加工领域的核心设备,也是技术难度最大的设备,目前我国的光刻机整机及分系统技术与国外先进水平有着很大的差距。......
本文介绍的高精度温度测量系统是高精度测温仪和温度检测元件——热敏电阻器相结合的温度测量系统.文章中分析了影响测量精度的主......
光刻机掩模台是光刻机运动控制系统中关键的运动机构之一，其作用是承载掩模片与工件台协同运动共同完成对硅片的扫描光刻任务。本文......
双工件台光刻机采用宏微驱动的方式,以达到整个系统对速度和精度的要求,作为宏动台的执行机构—永磁同步直线电机(PMLM),主要负责......
步进扫描光刻机的研发工作是国内的重大科技专项之一，本文以光刻机工件台和掩模台控制系统研究为背景，为满足曝光扫描时各个子系统的......
光刻机技术从干式到浸润式的革新成就了ASML，淘汰了尼康、佳能;苹果IOS生态的构建令手机进入真正的智能时代，而诺基亚帝国“轰然”崩......
高精度平面光栅尺测量系统的测量精度直接影响浸没光刻机硅片台的定位精度和稳定时间.考虑到安装在平面光栅尺载体上的平面光栅尺......
