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自研究垂直记录以来,十多年过去了。开发出的各种垂直记录介质中,首推溅射 Co—Cr介质。这些介质普遍表现出良好的垂直磁记录性能。但是,Co-Cr 膜耐用性不够,需附加保护层强化表面。而保护层又有其他副作用。预计 Co—Cr 蒸镀介质不久将成为商品化的高密度磁记录介质。颗粒钡铁氧体的耐用性好,已成