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采用磁控溅射法在T10钢表面获得了SiC薄膜，并研究了溅射方式、工艺参数以及中间层对薄膜结合性能的影响。试验结果表明，采用功率为200W射频法和时间为2h的SiC／Ni—P双层薄膜结合力最好。
碳钢基体磁控溅射SiC薄膜结合力研究
【摘 要】
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采用磁控溅射法在T10钢表面获得了SiC薄膜，并研究了溅射方式、工艺参数以及中间层对薄膜结合性能的影响。试验结果表明，采用功率为200W射频法和时间为2h的SiC／Ni—P双层薄膜结合
【机 构】
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江苏大学材料科学与工程学院
【出 处】
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金属热处理
【发表日期】
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2007年2期
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