【摘 要】
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基于磁流变效应和集群原理提出集群磁流变效应平面抛光技术,对磁极排布方式、端面形状及其尺寸的磁场特性进行静磁场有限元分析优化,结果表明,选取圆柱平底磁极进行同向规律
【机 构】
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广东工业大学机电工程学院 广州510006华侨大学脆性材料加工技术教育部工程研究中心 厦门361021;
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基于磁流变效应和集群原理提出集群磁流变效应平面抛光技术,对磁极排布方式、端面形状及其尺寸的磁场特性进行静磁场有限元分析优化,结果表明,选取圆柱平底磁极进行同向规律排布时容易形成由多个独立“微磨头”组成的柔性抛光膜,能实现加工表面与“微磨头”的实际接触面积最大化.通过设置“微磨头”尺寸及数量与工件的接触状态,对K9玻璃、单晶硅和单晶6H-SiC三种硬脆材料基片加工出弧形抛光带,试验验证集群磁流变效应抛光膜的集群特性.对加工表面与抛光盘表面之间的间隙、加工时间、磁感应强度和转速等集群磁流变平面抛光工艺参数进行试验优化,并采取优化工艺对三种硬脆材料进行30 min抛光,K9玻璃表面粗糙度从Ra0.34 μm下降到Ra 1.4 nm,单晶硅从Ra57.2 nm下降到Ra4 nm,单晶SiC从Ra 72.89 nm下降到Ra1.92 nm,均能获得纳米级粗糙度表面.
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