【摘 要】
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以二氧化钛光催化氧化为预处理手段,测定液晶材料中氟含量该方法是否可行。利用二氧化钛光能够有效处理含氟有机化合物,并使其完全降解的机理,以二氧化钛作为预处理手段对含
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以二氧化钛光催化氧化为预处理手段,测定液晶材料中氟含量该方法是否可行。利用二氧化钛光能够有效处理含氟有机化合物,并使其完全降解的机理,以二氧化钛作为预处理手段对含氟液晶化合物进行有机破坏,使碳氟键断裂,在对生成的F-用离子色谱法进行测定。二氧化钛催化剂用量为0.1g/L时,可达到最佳的光催化降解效果,最佳降解时间为50分钟。F-峰面积与其含量在0.005至1mg/g范围内呈良好的线性关系,检出限为2.1μg/g。测得3种液晶材料的氟含量分别为7.6,18.1及28.4mg/g,不同浓度的加标回收率为86.
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