氧化还原条件变化对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征影响

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户：caoyongtao1985

【摘要】

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利用三维荧光光谱（3EEMs）技术,考察了不同氧化还原条件对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征的影响。好氧条件下上覆水体中DOM的荧光指数要高于厌氧条件,说明在不同的氧化

【作者】

：

朱维晃黄廷林张亚宁

【机构】

：

西安建筑科技大学

【出处】

：

光谱学与光谱分析

【发表日期】

：

2010年12期

【关键词】

：

上覆水体三维荧光光谱氧化还原条件 Overlying water Three dimensional excitation emission matrix

【基金项目】

：

国家自然科学基金项目（50830303 40903042）, 教育部“长江学者与创新团队发展计划”创新团队项目（IRT0853）, 教育部博士点基金项目（20096120120012）, 陕西省教育厅基金项目（08JK329）, 陕西省自然科学基金项目（2007E241）, 西建大青年基金项目（QN0813）, 西建大人才科技基金项目（RC0613）资助

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利用三维荧光光谱（3EEMs）技术,考察了不同氧化还原条件对上覆水体中溶解有机质的三维荧光光谱特征的影响。好氧条件下上覆水体中DOM的荧光指数要高于厌氧条件,说明在不同的氧化还原条件下,上覆水体中DOM来源和组成均存在一定的差异性。上覆水体的三维荧光光谱特征也存在显著差异：好氧条件下,上覆水体中的类蛋白荧光峰强度均高于腐殖质类荧光峰强度,且三维荧光光谱图显示腐殖质类DOM存在氧化降解现象。厌氧条件下,上覆水体中腐殖质类荧光峰的强度随培养天数逐渐增加,当厌氧培养时间为21 d,C和D荧光峰的强度已分别上升至

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