多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究

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本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1 h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。
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