【摘 要】
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利用XPS研究了CsI/Ni薄膜系统的深度剖面分布,研究结果指出:CsI膜在20～200℃的温度范围内是热稳定的,而且CsI膜厚度随烘烤温度增加而增加。由于Ni扩散至CsI层内,CsI/Ni紫外光
【机 构】
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利用XPS研究了CsI/Ni薄膜系统的深度剖面分布,研究结果指出:CsI膜在20～200℃的温度范围内是热稳定的,而且CsI膜厚度随烘烤温度增加而增加。由于Ni扩散至CsI层内,CsI/Ni紫外光电阴极长波阈向长波延伸。
The depth profile of CsI / Ni thin film system was studied by XPS. The results show that the CsI film is thermally stable in the temperature range of 20 ~ 200 ℃, and the thickness of CsI film increases with the increase of baking temperature. Due to the diffusion of Ni into the CsI layer, the long wave threshold of the CsI / Ni UV photocathode extends in a long wavelength.
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