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主要研究了用在管式PECVD沉积SiO2-Si3N4叠层钝化膜对电池片效率及组件PID的影响。叠层钝化膜可以通过管式PECVD工艺一次性完成。沉积SiO2-Si3N4叠层膜与常规Si3N4膜进行对比,电池片效率可以提升0.07%,其中短路电流和开路电压提升明显。沉积SiO2-Si3N4叠层膜电池的组件可以实现PID合格。