【摘 要】
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中国科学院微电子研究所等单位的研究人员在增强型氮化镓（GaN）MIS-HEMT（金属-绝缘层-半导体高电子迁移率晶体管）器件研制方面取得新进展，成功研制出了具有国际先进水平的高频增强
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中国科学院微电子研究所等单位的研究人员在增强型氮化镓（GaN）MIS-HEMT（金属-绝缘层-半导体高电子迁移率晶体管）器件研制方面取得新进展，成功研制出了具有国际先进水平的高频增强型GaN MIS-HEMT器件。研究人员通过耐高温刻蚀掩模技术，创新性地采用高温栅槽刻蚀工艺显著降低了对沟道二维电子气的损伤，提高了刻蚀残留物的挥发性。
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