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n-Si (111 ) 表面跟踪 -C2H5,-C2H4COOH,-C2H2COOH 被反应在 Si-H 之中准备到 ethyl-Grignard,甲基压克力吃了,丙酸乙酯,和 carboxyls 在 trifluoroacetic 酸的存在下面被形成。合成 n-Si (lll ) 电极被扔磅 nanodots 获得,为这些电极的光电的特征在 I~-/I_3~- 氧化还原作用电解质被学习。到在太阳的照明下面的电极的相片电压和光电流密度的行为与一些 -C2H2COOH>-C2H4COOH>-H&