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利用高功率连续CO2激光定点辐照, 对砷离子注入的硅片进行退火。实验结果表明晶格损伤得到了完全恢复, 注入砷原子的替位率与电激活率高, 还克服了激光聚焦扫描退火时引起硅片表面变形的问题。
硅中注砷的连续CO2激光退火的研究
【摘 要】
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利用高功率连续CO2激光定点辐照, 对砷离子注入的硅片进行退火。实验结果表明晶格损伤得到了完全恢复, 注入砷原子的替位率与电激活率高, 还克服了激光聚焦扫描退火时引起硅片表面变形的问题。
【机 构】
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中国科学院上海冶金所上海第一医学院附属眼耳鼻喉科医院中国科学院上海光机所
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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1983年10期
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