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以石英片为基底，采用直流/射频磁控共溅射法制备了掺Al、掺Ti的VO2薄膜。对所制样品进行了电阻-温度关系、原子力显微镜、透射光谱等光电性能测试。结果分析表明，Al元素可以提高薄膜相变温度及Ti元素可以有效提高相变前后电阻率变化幅度，并且用半导体能带理论对VO2薄膜光电性质改变的原因及掺杂对其造成的影响予以解释，提出了影响相变滞豫的原因及改善方法。最后对磁控共溅射沉积方法制备掺杂薄膜的工艺方法提出了改进。