离子束淀积方法制备GdSi2薄膜

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yzz133

【摘要】

：

采用离子束淀积方法制备了单相GdSi2薄膜．用俄歇电子谱仪对样品的成分进行了分析，用X射线衍射方法分析了样品的结构，并用扫描电子显微镜观察了样品的表面形貌．X射线衍射分析发现

【作者】

：

李艳丽陈诺夫周剑平宋书林杨少延刘志凯

【机构】

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中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室北京100083,中国科学院力学研究所国家微重力实验室北京100080

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

2004年8期

【关键词】

：

离子束淀积 X射线衍射 GdSi2 ionbeam deposition Xray diffraction gadolinium disilicide

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采用离子束淀积方法制备了单相GdSi2薄膜．用俄歇电子谱仪对样品的成分进行了分析，用X射线衍射方法分析了样品的结构，并用扫描电子显微镜观察了样品的表面形貌．X射线衍射分析发现在400C沉积的样品中仅存在正交的GdSi2相．样品在氩气氛中350℃，30min退火处理后，GdSi2相衍射峰的半高宽变窄，说明经过退火处理，GdSi2的晶体质量变得更好．

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