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两维拉曼成像
【出 处】
:
激光与光电子学进展
【发表日期】
:
1994年31期
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利用反作用算符的方法,研究了一个单模激光场将原子从束缚能级激发到自电离能级的过程中,双光子过程和自发辐射过程的影响。研究结果表明:自发辐射对这种光电离过程的影响一般情况下是很小的,但光子能谱特性十分明确地表明,辐射主要来源于由态共振加强的喇曼过程;并显示了激光诱导自电离过程中的缀饰(Dressed)原子图像;双光子过程将使光电子能谱和光诱导自电离过程变得非常复杂,单光子和双光子过程所产生的光电子能谱,都具有多极大值结构。
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在利用激光多普勒效应对旋转体表面轮廓损伤进行测量时,其散射光的多普勒信号强度及质量是影响测量精度的极其重要的参数.研究了激光多普勒参考光技术、旋转体表面散射光位相无规则变化的平均效应和最小二乘法曲线拟合技术,设计出高信噪比的参考光路,并对物体表面细微结构所引起的信号丢失进行了重构,实现了旋转体表面轮廓损伤的测量,其相对误差约0.3%.
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