【摘 要】
:
研究了以脉冲YAG倍频激光泵浦Rh6G染料,产生分布反馈激光振荡的辐射光谱、转换效率、时间过程以及可调谐特性;发现在大于泵浦阈值下的分布反馈激光输出的多谱线结构与双脉冲辐射现象,以及分布反馈激光脉冲变窄的自开关效应.作为详细的实验观察和分析.
论文部分内容阅读
研究了以脉冲YAG倍频激光泵浦Rh6G染料,产生分布反馈激光振荡的辐射光谱、转换效率、时间过程以及可调谐特性;发现在大于泵浦阈值下的分布反馈激光输出的多谱线结构与双脉冲辐射现象,以及分布反馈激光脉冲变窄的自开关效应.作为详细的实验观察和分析.
其他文献
Compared to the traditional wavelength division multiplexing (WDM) optical networks with rigid and coarse granularities, flexible spectrum optical networks have high spectrum efficiency, which can support the service with various bandwidth requirements, s
Nd,Gd∶CaF2是一种无序结构晶体,具有光谱宽、热导率高、透射范围大、声子能量低等优势。利用0.5%Nd,8%Gd∶CaF2晶体作为激光增益介质(百分数为原子数分数),实现了LD抽运的调谐激光输出,激光调谐波长范围为1045.7~1074.2 nm;将半导体可饱和吸收镜作为锁模元件,最终实现了双波长锁模激光输出,锁模激光器的中心波长分别位于1065.45 nm和1066.48 nm。锁模激光器的最大平均输出功率约为394 mW,最小脉冲宽度约为8.37 ps
Based on the density functional theory with hybrid functional approach, we calculated the structural, electronic, and the optical properties of Cu2MgSn(S1-xSex)4 (CMTSSe),an potential photovoltaic material for t
为了提高复杂背景下运动目标的检测精度,研究了复杂背景下运动目标的检测算法。针对传统的光流算法在摄像机运动的情况下无法有效检测到目标的问题,将全局运动补偿算法与HS光流算法相结合,提出了基于全局运动补偿的HS光流检测算法,在摄像机运动的情况下,可以有效地补偿背景运动对检测目标所带来的干扰。仿真结果表明,所提出的算法能够有效地克服摄像机运动所带来的干扰,准确地检测到运动目标,该算法与传统的光流检测算法
贝尔实验室的科学家报导已经建立了产生“压缩”态光的光源。光的“压缩”态是量子光学术语,是前几年在科学文献中刚刚出现的。在经典光学中没有压缩态的类似现象。压缩态的分析是用电磁辐射场的正弦分量和余弦分量(它们的平方和与光束的强度成正比)语言进行的。这些分量的量子起伏服从海森堡测不准关系:它们的不确定性乘积不可能小于量子极限。
建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数,准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比,200 nm 尺寸时仿真速度提高9倍左右。与改进单平面近似模型和基于单平面近似的简化模型相比,该模型对衍射谱和空间像的仿真精度有了较大提高,并且仿真精度随缺陷尺寸和入射角的变化很小。以 1 级衍射光为例,6°入射时,与改进单平面近似模型和简化模型相比,该模型对衍射谱振幅的仿真误差分别减小了77%和63%。
本文针对梯度折射率分布的透镜(以后简称梯析透镜)与光纤在折射率分布上的不同点,对用于光纤及其预制棒测量的聚焦法的原理公式,计算测量方法等进行了重要改进,从而使聚焦法可适用于梯折透镜的测量.本文通过计算机模拟计算,对原理公式及计算方法的准确性和可靠性进行了验证,并同时给出了这一测量方法的精度,最后给出了测量实例及其比较结果.
基于液晶/聚合物光栅,以MDMO-PPV为增益介质,在抽运增益介质层不同位置处对出射激光波长进行粗略调谐,通过施加外部电压对出射激光波长进行精密调谐,最终得到调谐范围为18 nm、可连续精密调谐的液晶/聚合物光栅有机半导体激光器。该研究可为改进可调谐分布反馈有机半导体激光器提供一些新思路。
研究亚稳态原子He(23S)与CH3CN的能量转移反应,获得了CN(B2Σ -X2Σ )的近紫外辐射光谱。根据光谱强度,研究了CN(B2Σ )的形成速率和振动布居,并探讨了传能反应机理。
Calcium fluoride is widely used in optical lithography lenses and causes retardation that cannot be ignored. However, few studies have been conducted to compensate for the retardation caused by calcium fluoride in optical lithography systems. In this Lett