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介绍了会聚束电子衍射（ＣＢＥＤ）技术与计算机模拟相结合测定ＧｅｘＳｉ１－ｘ／Ｓｉ化学梯度层中应变分布的实验结果，提供了一种高空间分辨率，高灵敏度，且适用于任何材料系中微区晶格常数测定及应变分布研究的技术途径。
GexSi1—x／Si中应变的会聚束电子衍射研究
【摘 要】
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介绍了会聚束电子衍射（ＣＢＥＤ）技术与计算机模拟相结合测定ＧｅｘＳｉ１－ｘ／Ｓｉ化学梯度层中应变分布的实验结果，提供了一种高空间分辨率，高灵敏度，且适用于任何材料系中微区晶格常数测定及应变分布研究的技
【机 构】
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中国科学院半导体研究所材料开放实验室
【出 处】
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功能材料与器件学报
【发表日期】
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2000年4期
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