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磁控溅射技术是制备钛基薄膜常用的方法。本文综述了磁控溅射法的基本原理、特点及方法种类,并总结了磁控溅射法制备TiO2、TiN、TiC薄膜和Ti复合薄膜的最新研究进展,最后展望了磁控溅射技术制备Ti基薄膜的发展方向。
磁控溅射制备钛基薄膜研究进展
【摘 要】
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磁控溅射技术是制备钛基薄膜常用的方法。本文综述了磁控溅射法的基本原理、特点及方法种类,并总结了磁控溅射法制备TiO2、TiN、TiC薄膜和Ti复合薄膜的最新研究进展,最后展望
【机 构】
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中国航发沈阳黎明航空发动机有限责任公司,北京科技大学新材料技术研究院,矿冶科技集团有限公司,东北大学冶金学院
【出 处】
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热喷涂技术
【发表日期】
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2020年2期
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