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全球最大光掩模图形描绘设备的领导供应商Micronic Laser Systems AB于2006年9月4日在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供最新的图形描绘技术，并详细介绍Micronic完善的服务支持。此举是Micronic持续拓展其领先光掩模制造中心策略的一部分。
Micronic针对中国的光掩模行业举办技术研讨会
【摘 要】
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全球最大光掩模图形描绘设备的领导供应商Micronic Laser Systems AB于2006年9月4日在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供最新的图形描绘技术，并详细介绍Micronic
【机 构】
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《电子与封装》记者
【出 处】
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电子与封装
【发表日期】
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2006年12期
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