电沉积坡莫合金薄膜的结构和纵向磁阻抗效应

来源 :华东师范大学学报：自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：com_wang

【摘要】

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采用电沉积法制备了厚度为1.1μm到6.9μm的坡莫合金薄膜.经X-射线衍射分析,其结构为fcc结构,其中NiFe(111)衍射峰的强度明显增强.该薄膜的磁滞回线测量结果表明:其矫顽力随

【作者】

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宫峰飞凯木尔沈国土袁望治阮建中杨燮龙

【机构】

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华东师范大学

【出处】

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华东师范大学学报：自然科学版

【发表日期】

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2005年1期

【关键词】

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结构磁阻抗坡莫合金电沉积 structure magneoimpedance permalloy films electrodeposition

【基金项目】

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上海市青年科技启明星计划

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采用电沉积法制备了厚度为1.1μm到6.9μm的坡莫合金薄膜.经X-射线衍射分析,其结构为fcc结构,其中NiFe(111)衍射峰的强度明显增强.该薄膜的磁滞回线测量结果表明:其矫顽力随着薄膜厚度的增加而减小.在交流Irms=6 mA,频率范围在0.05 kHz到600 kHz的条件下,纵向磁阻抗比随着薄膜厚度的增加而增加,其最小值可达-52%.

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