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在低氧分压气氛下氧化HP40合金，在合金表面形成具有抑制催化结焦能力的氧化膜，并采用X射线能最色散诺（EDS）、X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）和扫描电了显微镜（SEM）分析氧化膜的元素成分、物相结构、表面和截面形貌，用热重天平分析氧化膜的增重规律，用结焦实验评价氧化膜的抗结焦性能。结果表明：经低氧分压处理后，在金属表而形成的氧化膜由表及晕分为3层，分别为MnCr2O4尖晶石层、Cr2O3层和ISiO2层，氧化膜的厚度约为2μm，氧化温度为900℃时氧化膜的结焦抑制率可达到90％，氧化膜可