【摘 要】
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采用二次曝光全息差分干涉术测定了大尺寸光学玻璃的自重形变和负荷形变所引起的折射率变化。测量精度为±1×10~(-6)。
The double exposure holographic differential int
【机 构】
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中国科学院上海光机所,成都电讯工程学院 毕业实习生
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采用二次曝光全息差分干涉术测定了大尺寸光学玻璃的自重形变和负荷形变所引起的折射率变化。测量精度为±1×10~(-6)。
The double exposure holographic differential interferometry was used to measure the refractive index changes caused by self-weight deformation and load deformation of large-size optical glass. Measurement accuracy of ± 1 × 10 ~ (-6).
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